シャワープレート（半導体製造装置用ガス拡散プレート）提案事例

半導体製造装置のCVD（化学気相成長）装置やドライエッチング装置に搭載されるシャワープレートは、チャンバー内のウエハ表面へ原料ガスを均一に噴出・拡散させるためのキーパーツです。数百〜数千の微細穴をミクロン単位の精度で配列する必要があり、穴径・ピッチ・内壁品質のわずかなバラつきが、成膜の膜厚均一性や歩留まりに直結します。エヌシー産業では、微細穴φ0.1〜6.0mm・多穴・多素材・試作〜量産一貫対応を強みに、半導体製造装置メーカー様向けのシャワープレートの精密穴あけ加工を提案可能です。

加工素材

樹脂全般、テフロン、エンプラ、アルミ