半導体製造装置のCVD（化学気相成長）装置やドライエッチング装置に搭載されるシャワープレートは、

チャンバー内のウエハ表面へ原料ガスを均一に噴出・拡散させるためのキーパーツです。

数百〜数千の微細穴をミクロン単位の精度で配列する必要があり、穴径・ピッチ・内壁品質のわずかなバラつきが、成膜の膜厚均一性や歩留まりに直結します。

エヌシー産業では、微細穴φ0.1〜6.0mm・多穴・多素材・試作〜量産一貫対応を強みに、

半導体製造装置メーカー様向けのシャワープレートの精密穴あけ加工を提案可能です。

この他にも吸着グリッドプレート、フィルター用の穴加工も対応可能です。

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シャワープレート（半導体製造装置用ガス拡散プレート）提案事例

弊社の穴開け加工をご紹介をさせていただきます。
穴開け同時加工6軸専用機にて、あらゆる素材に穴を開ける事が可能です。
単純な穴配列、デザイン性を持たせた穴など、自由度のある対応が可能です。
金型などの初期費用も必要なく、試作から量産まで対応致します。
皆様のご来場を心よりお待ち申し上げます。

ポートメッセナゴヤ
2024年10月30日(水) -11月1日(金) 10:00-17:00
久御山産業売り込み隊(久御山商工会ゾーン)